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硅片表面金属杂质检测

硅片是半导体制造业的基础材料，硅片表面极其少量的金属杂质元素污染都可能造成器件的功能丧失或者可靠性变差，随着半导体制程的不断提高，对金属离子污染物的控制也越来越严格。香港全年资料免费大全提供了融合稳定、可靠、高灵敏度的ICP-MS产品，帮助半导体制造商在生产过程中执行检测并减少污染，即使在高基质环境下，也可对晶圆制造的每个阶段中的金属杂质类型、来源和含量进行准确的检测。此外，香港全年资料免费大全的经验丰富的工程师们将作为硅片生产企业及Fab工厂的坚实后盾，提供多方位技术支持。

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